?超純水設備的(de)工藝要求?主要包括以(yi)下幾個關鍵步驟和技術：
?預處理(li)系(xi)統?：預處理是對原水進行高效加工的關鍵環節，旨在提取符合后續工藝要求的給水。這一階段主要通過去除原水中的膠體、懸浮物，將SDI控制在5以下，并降低LSI以防止碳酸鹽結垢。在傳統的超純水制造中，多介質過濾器與活性炭過濾器常被用作預處理手段。然而，在半導體廠中，粗過濾器和超濾裝置則更為常見，因為它們能提供更穩定的SDI值，有效保障系統后期運行?1。
?反滲(shen)透系統?：反滲透（RO）技術是超純水處理的核心工藝之一。單級RO適用于一般工業需求，脫鹽率約95%-98%；雙級RO則通過串聯兩級RO膜，脫鹽率提升至99.8%，滿足醫藥、電子等行業超純水需求。RO技術通過高壓迫使水分子透過孔徑0.0001微米的RO膜，截留無機鹽、重金屬、細菌及病毒等污染物，實現水質純化?2。
?電(dian)去離(li)子（EDI）技術?：在反滲透處理后，通常需要進一步深度脫鹽，電阻率需大于15MΩ·cm。EDI技術利用電場作用將離子從水中分離并去除，從而實現高效脫鹽?1。
?拋光混床工藝(yi)?：為了確保超純水系統的產水穩定性，通常在純水箱后的輸送管道中加入拋光混床工藝。雙級拋光混床被廣泛采用，以進一步提升水質純度?1。
?紫外線殺菌器（UV）與TOC脫除器?：在電去離子系統之前，通常會安裝UV殺菌器，利用254nm的紫外線波長殺滅水中的微生物和細菌。而TOC脫除器則置于拋光混床之前，利用185nm的紫外線波長進行催化，通過氧化降解水中的有機物，確保產水的TOC值低于100ppb?1。
?其他輔助設備?：包括石英砂過濾、活性炭吸附、軟化器等預處理設備；中間水箱、純水箱等儲存設備；高壓泵、低噪音隔膜泵等驅動設備；以及電導率儀、流量計等監測設備?2。
