設備(bei)特點(dian)：
1: 整(zheng)體化程(cheng)度(du)高 , 易于擴展 , 增加膜數量即可(ke)增加處理量。
2: 自動(dong)化程度(du)高 , 遇故障立(li)即(ji)自停 , 具有自動(dong)保(bao)護功能。
3: 膜組(zu)件為復合膜卷(juan)制而成 , 表現出更高的(de)溶質分離(li)率(lv)和透過速率(lv)。
4: 能耗(hao)低 , 水利(li)用率高 , 運行成本低。
5: 結構合理 , 占地面積少(shao)。
6: 先(xian)進的膜(mo)(mo)保護系(xi)統 , 在設備關機(ji) , 淡(dan)化水可自動將膜(mo)(mo)面(mian)污染物沖洗干(gan)凈 , 延長膜(mo)(mo)壽命。
7 系統無易損部(bu)件 , 無須大量維修(xiu) , 運行長期有效。
8: 設(she)備設(she)計有膜清洗(xi)系(xi)統(tong)用(yong)阻垢系(xi)統(tong)。
工藝(yi)流(liu)程
醫藥(yao)行業制備超水的(de)工(gong)藝(yi)大致分成以下幾種：
1、原(yuan)(yuan)水→原(yuan)(yuan)水加壓(ya)泵(beng)→多介質過(guo)濾(lv)(lv)器(qi)(qi)→活性炭過(guo)濾(lv)(lv)器(qi)(qi)→軟水器(qi)(qi)→精密(mi)過(guo)濾(lv)(lv)器(qi)(qi)→一級反滲透 設備(bei)→中(zhong)間水箱(xiang)→中(zhong)間水泵(beng)→離(li)子交換(huan)器(qi)(qi)→純(chun)化水箱(xiang)→純(chun)水泵(beng)→紫外線殺(sha)菌器(qi)(qi)→微(wei)孔(kong)過(guo)濾(lv)(lv)器(qi)(qi)→用(yong)水點
2、原(yuan)水(shui)(shui)(shui)→原(yuan)水(shui)(shui)(shui)加壓泵→多介質過(guo)濾器(qi)→活性炭過(guo)濾器(qi)→軟水(shui)(shui)(shui)器(qi)→精密過(guo)濾器(qi)→第一(yi)級反滲(shen)透(tou) →PH調節(jie)→中間水(shui)(shui)(shui)箱→第二級反滲(shen)透(tou)(反滲(shen)透(tou)膜表面帶正電荷)→純(chun)(chun)化水(shui)(shui)(shui)箱→純(chun)(chun)水(shui)(shui)(shui)泵→紫外線殺菌器(qi)→ 微孔過(guo)濾器(qi)→用(yong)水(shui)(shui)(shui)點(dian)
3、原水(shui)→原水(shui)加壓泵(beng)(beng)→多介質過(guo)(guo)濾器→活(huo)性炭過(guo)(guo)濾器→軟水(shui)器→精密過(guo)(guo)濾器→一(yi)級反(fan)滲透機→中(zhong)間水(shui)箱→中(zhong)間水(shui)泵(beng)(beng)→EDI系統→純化(hua)水(shui)箱→純水(shui)泵(beng)(beng)→紫外線殺菌器→微孔(kong)過(guo)(guo)濾器→用水(shui)點
主要用途：
1、超(chao)純材料和超(chao)純試劑的(de)生產和清洗。
2、電子產(chan)品(pin)的生產(chan)和清洗。
3、電池(chi)產品(pin)的(de)生產。
4、半導體產(chan)品的生(sheng)產(chan)和清洗。
5、電路板的生產和清洗(xi)。
6、其他高科技精細產品的(de)生(sheng)產。
